Question

【題目】高聚物H可用于光刻工藝中，作抗腐蝕涂層。下面是高聚物H的合成路線：

Ⅱ.反應③屬于加聚反應 Ⅲ.D屬于高分子化合物，

請回答下列問題：

(1)反應⑤的條件是_______________；E的分子式為__________________；

(2)C中含有的官能團的名稱是________________ ；

(3)芳香烴M與A的實驗式相同，經測定M的核磁共振氫譜有5組峰且峰面積比為1:1:2:2:2,則M的結構簡式為_____________ ；推測M可能發生的反應類型是___________；(寫出一種即可)

(4)反應⑦的化學方程式為___________________________________________________ ；

(5)D和G反應生成H的化學方程式為___________________________________________ ；

(6)G的同分異構體中，與G具有相同官能團的芳香族化合物還有__________種(不考慮立體異構)。

Answer 1

【答案】光照 C7H8O 酯基 加成反應或加聚反應或氧化反應 4

【解析】

碳化鈣與水反應生成乙炔（A），根據C的結構簡式可知B的結構簡式為CH2=CH-OOCCH3，所以乙炔和乙酸在一定條件下發生加成反應生成CH2=CH-OOCCH3；有機物C在堿性條件下發生水解生成高分子化合物D，；有機物 X為甲苯，與氯氣發生側鏈上的取代反應生成（Y）C6H5-CH2Cl，Y在堿性條件下水解生成（E）C6H5-CH2OH，有機物E被氧化為(F )C6H5-CHO，根據信息可知，C6H5-CHO與CH3COOH在一定條件下發生反應生成（G）C6H5-CH=CH2COOH，高分子化合物D與G發生酯化生成高分子化合物H；據以上分析解答。

碳化鈣與水反應生成乙炔（A），根據C的結構簡式可知B的結構簡式為CH2=CH-OOCCH3，所以乙炔和乙酸在一定條件下發生加成反應生成CH2=CH-OOCCH3；有機物C在堿性條件下發生水解生成高分子化合物D，；有機物 X為甲苯，與氯氣發生側鏈上的取代反應生成（Y）C6H5-CH2Cl，Y在堿性條件下水解生成（E）C6H5-CH2OH，有機物E被氧化為(F )C6H5-CHO，根據信息可知，C6H5-CHO與CH3COOH在一定條件下發生反應生成（G）C6H5-CH=CH2COOH，高分子化合物D與G發生酯化生成高分子化合物H；

(1)結合以上分析可知， X為甲苯，與氯氣發生側鏈上的取代反應生成（Y）C6H5-CH2Cl，反應條件為光照；E的結構簡式為C6H5-CH2OH，E的分子式為C7H8O；綜上所述，本題答案是：光照；C7H8O。

(2) 根據流程中C的結構簡式可知含有的官能團是酯基；綜上所述，本題答案是：酯基。

(3) A為乙炔，實驗式為CH，I可能是苯、苯乙烯等，又因為I的核磁共振氫譜上有5組峰且峰面積之比為1∶1∶2∶2∶2，故M為苯乙烯，結構簡式為；分子中含有碳碳雙鍵，可以發生加成反應、加聚反應、氧化反應；含有苯基，還能夠發生取代反應；M可能發生的反應類型是加成反應或加聚反應或氧化反應；綜上所述，本題答案是：；加成反應或加聚反應或氧化反應。

(4)綜上所述，有機物E苯甲醇被氧化為(F )C6H5-CHO，反應⑦的化學方程式為：；綜上所述，本題答案是：。

(5) D和G發生取代反應反應生成H的化學方程式為；綜上所述，本題答案是：。

(6) G為C6H5-CH=CH2COOH，與G具有相同官能團的芳香族化合物還有：(鄰、間、對3種)，（1種）共4種；綜上所述，本題答案是：4。