Question

【題目】合成氨是人類科學技術上的一項重大突破，是化學和技術對社會發展與進步的巨大貢獻之一．在制取合成氨原料氣的過程中，常混有一些雜質，如CO會使催化劑中毒．除去CO的化學反應方程式（HAc表示醋酸）：Cu（NH3）2Ac+CO+NH3═Cu（NH3）3（CO）Ac． 請回答下列問題：
（1）C，N，O的第一電離能由大到小的順序為 ．
（2）寫出基態Cu+的核外電子排布式 ．
（3）配合物Cu（NH3）3（CO）Ac中心原子的配位數為
（4）寫出與CO互為等電子體的離子： ． （任寫一個）
（5）某化合物的晶胞如圖所示，寫出該化合物的化學式 ， 距離每個X+最近的Cl﹣的個數為 ．

Answer 1

【答案】
（1）N＞O＞C
（2）1s22s22p63s23p63d10或[Ar]3d10
（3）4
（4）CN﹣
（5）XCl；4
【解析】解：（1）一般來說非金屬性越強，第一電離能大，所以O＞N＞C．但是因為p軌道半充滿體系具有很強的穩定性．N的p軌道本來就是半充滿的．O的p軌道失去一個電子才是半充滿的．所以O比N容易失去電子， 所以答案是：N＞O＞C；（2）銅原子的核外電子排布為1s22s22p63s23p63d104s1 故一價銅離子的核外電子排布為1s22s22p63s23p63d10 ， 所以答案是：1s22s22p63s23p63d10或[Ar]3d10；（3）一價銅離子有三個氨基配體和一個羰基配體，共4個配體，所以答案是：4；（4）等電子體為核外電子數相同的粒子，羰基為14個電子，如CN﹣也為14個電子，所以答案是：CN﹣；（5）在晶胞結構圖中X+位于晶胞頂點和面心，數目為8× +6× =4，Cl﹣位于晶胞中心，數目為4，故該化合物的化學式XCl，以面心的X+為例，距離每個X+最近的Cl﹣在一個晶胞中為2個，面心的X+為兩個晶胞共用，所以距離每個X+最近的Cl﹣的個數為4個，
所以答案是：XCl；4．