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工業(yè)上制備高純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下：SiCl₄（g）+2H₂（g）═Si（s）+4HCl（g）△H=+Q kJ/mol（Q＞0）某溫度、壓強(qiáng)下，將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng)（此條件下為可逆反應(yīng)），下列敘述中正確的是（ ）
A．反應(yīng)過程中，若增大壓強(qiáng)能提高SiCl₄的轉(zhuǎn)化率
B．若反應(yīng)開始時(shí)SiCl₄為1mol，則達(dá)平衡時(shí)，吸收熱量為Q kJ
C．反應(yīng)至4min時(shí)，若HCl濃度為0.12mol/L，則H₂的反應(yīng)速率為0.03mol/
D．當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時(shí)，生成的HCl通入100mL 1mol/L的NaOH溶液恰好反應(yīng)

工業(yè)上制備高純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下：SiCl₄（g）+2H₂（g）═Si（s）+4HCl（g）△H=+Q kJ/mol（Q＞0）某溫度、壓強(qiáng)下，將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng)（此條件下為可逆反應(yīng)），下列敘述中正確的是（ ）
A．反應(yīng)過程中，若增大壓強(qiáng)能提高SiCl₄的轉(zhuǎn)化率
B．若反應(yīng)開始時(shí)SiCl₄為1mol，則達(dá)平衡時(shí)，吸收熱量為Q kJ
C．反應(yīng)至4min時(shí)，若HCl濃度為0.12mol/L，則H₂的反應(yīng)速率為0.03mol/
D．當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時(shí)，生成的HCl通入100mL 1mol/L的NaOH溶液恰好反應(yīng)