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（15分）《物質結構與性質》（每空2分，化學反應方程式3分）

Ⅰ.已知A、B、C、D四種分子所含原子的數目依次為1、3、4、6，且都含有18個電子，其中B、C是由兩種元素的原子組成，且B分子中兩種元素原子的個數比均為1 :2 ，C分子中兩種元素原子的個數比均為1 :1，D是一種有毒的有機物。

（1）組成A分子的原子的元素符號是            ；

（2）從B分子的立體結構判斷，該分子屬于         分子（填“極性”或“非極性”）；分子空間結構為_______型。

（3）C在實驗室可用來制取常見的一種氣體單質，試寫出該化學反應方程式

________________________________________________________________________。

（4）D的熔、沸點比CH₄的熔、沸點高，其主要原因是（須指明D是何物質）：

________________________________________________________________________。

Ⅱ. Fe、Co、Ni、Cu等金屬能形成配合物與這些金屬原子的電子層結構有關。

（5）基態Cu原子的核外電子排布式為                。

（6）Fe(CO)₅常溫下呈液態，熔點為－20.5℃，沸點為103℃，易溶于非極性溶劑，據此可判斷Fe(CO)₅晶體屬于                （填晶體類型）。

（15分）《物質結構與性質》（每空2分，化學反應方程式3分）

Ⅰ.已知A、B、C、D四種分子所含原子的數目依次為1、3、4、6，且都含有18個電子，其中B、C是由兩種元素的原子組成，且B分子中兩種元素原子的個數比均為1 :2 ，C分子中兩種元素原子的個數比均為1 :1，D是一種有毒的有機物。

（1）組成A分子的原子的元素符號是           ；

（2）從B分子的立體結構判斷，該分子屬于        分子（填“極性”或“非極性”）；分子空間結構為_______型。

（3）C在實驗室可用來制取常見的一種氣體單質，試寫出該化學反應方程式

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（4）D的熔、沸點比CH₄的熔、沸點高，其主要原因是（須指明D是何物質）：

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Ⅱ. Fe、Co、Ni、Cu等金屬能形成配合物與這些金屬原子的電子層結構有關。

（5）基態Cu原子的核外電子排布式為               。

（6）Fe(CO)₅常溫下呈液態，熔點為－20.5℃，沸點為103℃，易溶于非極性溶劑，據此可判斷Fe(CO)₅晶體屬于               （填晶體類型）。

《物質結構與性質》（每空2分，化學反應方程式3分）

Ⅰ.已知A、B、C、D四種分子所含原子的數目依次為1、3、4、6，且都含有18個電子，其中B、C是由兩種元素的原子組成，且B分子中兩種元素原子的個數比均為1 :2 ，C分子中兩種元素原子的個數比均為1 :1，D是一種有毒的有機物。

（1）組成A分子的原子的元素符號是            ；

（2）從B分子的立體結構判斷，該分子屬于         分子（填“極性”或“非極性”）；分子空間結構為_______型。

（3）C在實驗室可用來制取常見的一種氣體單質，試寫出該化學反應方程式

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（4）D的熔、沸點比CH₄的熔、沸點高，其主要原因是（須指明D是何物質）：

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Ⅱ. Fe、Co、Ni、Cu等金屬能形成配合物與這些金屬原子的電子層結構有關。

（5）基態Cu原子的核外電子排布式為                。

（6）Fe(CO)₅常溫下呈液態，熔點為－20.5℃，沸點為103℃，易溶于非極性溶劑，據此可判斷Fe(CO)₅晶體屬于                （填晶體類型）。

（15分）《物質結構與性質》（每空2分，化學反應方程式3分）
Ⅰ.已知A、B、C、D四種分子所含原子的數目依次為1、3、4、6，且都含有18個電子，其中B、C是由兩種元素的原子組成，且B分子中兩種元素原子的個數比均為1 :2 ，C分子中兩種元素原子的個數比均為1 :1，D是一種有毒的有機物。
（1）組成A分子的原子的元素符號是           ；
（2）從B分子的立體結構判斷，該分子屬于        分子（填“極性”或“非極性”）；分子空間結構為_______型。
（3）C在實驗室可用來制取常見的一種氣體單質，試寫出該化學反應方程式
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（4）D的熔、沸點比CH₄的熔、沸點高，其主要原因是（須指明D是何物質）：
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Ⅱ. Fe、Co、Ni、Cu等金屬能形成配合物與這些金屬原子的電子層結構有關。
（5）基態Cu原子的核外電子排布式為               。
（6）Fe(CO)₅常溫下呈液態，熔點為－20.5℃，沸點為103℃，易溶于非極性溶劑，據此可判斷Fe(CO)₅晶體屬于               （填晶體類型）。