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回答下列問題：

（1）以MgSO4為原料可制備陰、陽離子個數比為1：1的化合物MgC2。已知MgC2中各元素原子都達到了穩定結構，則MgC2的電子式為__。

（2）“酸浸”時，FeCO3與稀硫酸反應的化學方程式為__。濾渣1的主要成分為SiO2和__(填化學式)；為了提高浸取率，除了適當增大稀硫酸的濃度和升溫外，還可采取的措施有__(寫出兩點)。

（3）“氧化”時，次氯酸鈉溶液將MnSO4氧化為MnO2的離子方程式為__；濾渣2的主要成分為MnO2和__、__(填化學式)。

（4）“一系列操作”主要是__。

（5）一種堿式碳酸鎂[4MgCO3·Mg(OH)2·5H2O]可用作防火保溫材料，用化學方程式說明其可做防火材料的原理：__。

A.如圖裝置的電流方向是從C1到C2

B.C1是負極，發生的反應是2I－＝I2＋2e－

C.K+離子向C1電極流動

D.裝置發生的總反應是Hg2++2I－＝HgI2↓

A. 該裝置將化學能轉化為光能和電能

B. 該裝置工作時，H＋從b極區向a極區遷移

C. 每生成1 mol O2，有44 gCO2被還原

D. a電極的反應為：3CO2+ 16H＋-18e－= C3H8O+4H2O

（1）從反應類型看，反應A屬于___，反應B屬于___，全過程屬于___。

（2）中間體（Ⅰ）中畫*號的碳原子的立體構型與下列化合物中畫*號碳原子接近的是（_____）

A．*CH≡CH B．CH3*CH2CH3 C． D．

（3）模仿上題，完成下列反應（不必寫中間體，不考慮反應條件，但要求配平）。

①+→___

②（過量）+CHCl3 →___

③+ →+HBr___

（1）由上述異氰酸酯和多元醇合成高聚物的反應屬于___反應（填“加聚”，“縮聚”）。

（2）寫出由2，6-甲基苯二異氰酸酯（如圖所示）和1，3-丙二醇為單體生成高聚物的化學方程式：___。

(1)A與D組成化合物中，含有非極性鍵的分子的電子式為___________

(2)B與D組成的化合物中，屬于非極性分子的電子式為____________

(3)A與C組成的化合物分子式的電子式為____________屬于_____分子。(填“極性”或“非極性”)

(4)已知A、B、C、D可組成一種化合物，且原子個數比8 ：1 ：2 ：3該化合物的化學式為_______屬于_____化合物(填“離子”或“共價”)

【題目】CH3COCH3(CH3)3COMgBr(CH3)3COH(CH3)3CMgBrABC + D

CE DF + G

以丙酮等常見有機物為原料，由上述反應能合成醇B，B能消去1分子水得到三種烯烴C、D、H，其中占C80%，D占20%，H因含量極低而未列出，C的臭氧化物E不能發生銀鏡，D的臭氧化物F能發生銀鏡，其中1gF最多可得金屬銀14.4g，G與Cl2在光照下反應時，可得三種酮的一氯取代物。

(1).寫出下列物質的結構簡式：

A________________ B_________________ E_______________ G_______________

(2).用一個方程式表示B轉化為C、D的反應。_______________________________________

(1)C60、金剛石和石墨三者的關系互為________。

A．同分異構體 B．同素異形體

C．同系物 D．同位素

(2)固態時，C60屬于________晶體(填“離子”、“原子”或“分子”)，C60分子中含有雙鍵的數目是________個。

(3)硅晶體的結構跟金剛石相似，1 mol硅晶體中含有硅硅單鍵的數目約是________NA個。二氧化硅的結構相當于在硅晶體結構中每個硅硅單鍵之間插入1個氧原子，二氧化硅的空間網狀結構中，硅、氧原子形成的最小環上氧原子數目是________個。

(4)石墨層狀結構中，平均每個正六邊形占有的碳原子數是________個。

（1）Z3+離子的結構示意圖為___________Y元素位于同期表中的第_____周期，第_____族。

（2）X和Y形成的化合物有__________、_________（填化學式）其中高溫下最穩定的化合物的電子式為____________。